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研磨拋光設備
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GIS-MP2
GIS-MP2
手動拋光研磨機分為單盤和雙盤兩款,皆可正反轉,精密的迴轉平衡度,用力壓也不會偏擺,不局限於樣品尺寸的大小,轉速可調 50-600RPM,也有不同款式的壓框可購買,是許多客戶的首選。
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GIS-MP2
手動拋光研磨機分為單盤和雙盤兩款,皆可正反轉,精密的迴轉平衡度,用力壓也不會偏擺,不局限於樣品尺寸的大小,轉速可調 50-600RPM,也有不同款式的壓框可購買,是許多客戶的首選。
類別
感應刀桿燒結機 (6)
燒結機水冷系統 (2)
品牌
GMT